세라믹 스프터링 대상 진크 황화물 대상 재료

ZnS 평면 표적 재료는 진공 핫 프레스 싱터링 프로세스를 채택하여 생산 할 수 있습니다. 최대 지름은 300mm이며 두께는 고객의 요구 사항에 따라 처리됩니다.

• 밀도: 4.0g/cm³
• 순수성: 99.99% - 99.999%

널리 사용:

• 반도체 칩
• 단말 태양광 태양광
• 평면판 디스플레이
• 특수 코팅 및 다른 산업

진공 열 압축 합금 방법으로 생산되는 다양한 세라믹 표적 재료는 첨단 기술과 성숙한 생산 프로세스를 갖추고 있습니다. 제품은 주로 다음과 같은 분야에서 사용됩니다.

• 얇은 필름 태양 에너지
• 평면판 디스플레이
• 광학 코팅
• 반도체
• 군사 산업

회사는 국내외의 많은 유명한 대학과 협력하여 새로운 재료와 프로세스의 연구 및 개발에 최선을 다하고 있습니다.그리고 국내외 고객들에게 다양한 고품질의 대상 재료 제품과 서비스를 계속 제공하고 있습니다..