세라믹 스프터링 대상 카드미움 황화물 대상 재료

진공 열 압축 합금 방식에 의해 생산되는 다양한 세라믹 표적 재료는 첨단 기술과 성숙한 생산 프로세스를 갖추고 있습니다. 이러한 제품은 주로 다음과 같이 사용됩니다.

• 얇은 필름 태양 전지
• 에너지 응용 프로그램
• 평면판 디스플레이
• 광학 코팅
• 반도체
• 군사용 용도

우리 회사는 새로운 재료와 프로세스의 연구와 개발에 헌신하는 국내외 명문 대학과 협력합니다.우리는 지속적으로 다양한 첨단 기술 솔루션에 대한 고품질 대상 재료 제품과 서비스를 제공합니다.

CdS 평면 표적 물질은 진공 열 압축 합금 과정을 사용하여 제조되며, 다음을 생산할 수 있습니다.

• 최대 길이: 300mm
• 최대 너비: 300mm
• 고객 요구에 따라 맞춤형 두께

목표 재료로 CdS 가루를 생산하는 데 수십 년의 경험을 바탕으로, 우리의 CdS 목표물은 균열 저항성 및 사용 중에 아크가없는 것을 포함하여 예외적인 특성을 제공합니다.

얇은 필름 태양 에너지 산업