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제품 상세 정보:
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| 차원(L*W*H): | 주문 제작됩니다 | 결합 유형: | (소결시킨) 전자형성, 금속이 나무진을 칠하고, 유리화 되었습니다 |
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| 신청: | 연마 슬러리 | 제품: | 광택처리 연마제 |
| 강조하다: | 콜로이달 실리카 광택처리 연마제,전자형성인 채 연마재를 싸고 부숩니다,전자형성 콜로이달 실리카 광택처리 연마제 |
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우리는 반도체, LED, 유리, 플라스틱 및 기타 금속을 포함한 다양한 응용 분야에서 연삭, 래핑 및 연마를 위한 고급 재료를 제조합니다.당사의 연마 제품은 고객의 요구 사항을 충족하고 최고 수준의 품질과 일관성을 제공하도록 설계되었습니다.
우리는 다양한 유형의 재료에 필요한 표면 마감을 제공하기 위해 특별히 개발된 연마 화합물 및 슬러리를 제공합니다.슬러리는 특수 현탁제 및 첨가제로 제조되며 다양한 연마재 크기로 제공됩니다.
GLANZOX는 액체와 특수 성분에 현탁된 콜로이드 실리카입니다.반도체 웨이퍼에서 GLAZOX는 나노미터 수준까지 거의 완벽하게 매끄러운 표면을 생성합니다.
또한, GLANZOX는 연마 공정에서 남을 수 있는 금속 불순물을 크게 줄입니다.
애플리케이션: 규소
연마재 유형: 콜로이드 실리카
COMPOL은 금속, 세라믹 및 탄탈산리튬(LiTaO)과 같은 전자 기판 연마를 위해 특별히 개발된 콜로이드 실리카 슬러리입니다.삼), 니오브산리튬(LiNbO삼), 사파이어.입자의 균일성과 분산성이 우수하여 높은 제거율과 손상 없는 연마를 제공합니다.
애플리케이션: 도자기, 사파이어, 금속, 니오브산리튬, 탄탈산리튬
연마재 유형: 콜로이드 실리카
FZ는 초미세 산화지르코늄 입자로 구성되어 있으며 몰리브덴, 텅스텐, 크롬, 티타늄, 니켈 및 이들의 합금과 같은 특수 금속 연마에 최적입니다.경질 우레탄 패드 및 폴리싱 피치와 함께 사용하면 FZ가 금속에 깊고 긁힘 없는 광택을 생성합니다.또한 FZ-02를 광학 렌즈의 최종 연마에 사용하여 렌즈 표면의 모든 긁힘과 범프를 제거하고 투과광의 간섭을 제거할 수 있습니다.
애플리케이션: 유리, 금속
연마재 유형: 지르코니아
CLEALITE는 알루미늄, 스테인리스 스틸, 티타늄과 같은 모든 종류의 금속에 경면 마감을 생성하는 연마 슬러리입니다.사용된 유형에 따라 표면 거칠기가 10nm(Rmax)인 스크래치 없는 표면을 제공하기 위해 특수 첨가제가 포함됩니다.CLEALITE는 금속의 최종 광택제로도 사용할 수 있습니다.
애플리케이션: 궤조
연마재 유형: 콜로이드 실리카
INSEC 시리즈는 화합물 반도체 재료에 고정밀 경면 마감을 생산합니다.INSEC 시리즈는 LED 관련 GaAs 및 GaP 제품의 에칭제로도 잘 작동합니다.
모든 INSEC 제품은 과립 형태로 제공되며 사용 전에 용해해야 합니다.
애플리케이션: 갈륨 비소, 갈륨 인화물, 인듐 인화물
연마재 유형: 연마 과립
POLIPLA는 플라스틱 렌즈용으로 특별히 개발된 컴파운드 타입의 연마제입니다.이 고순도 알루미나는 pH 약 3.0~4.0의 특수 용액에 균일하게 분산되어 우수한 연마 성능과 고품질의 마감면을 제공합니다.POLIPLA는 다양한 유형으로 제공되므로 필요에 맞는 최적의 솔루션을 선택할 수 있습니다.금속 부식에 취약한 용도에 부식 및 발포를 방지하기 위해 첨가제를 포함하는 유형도 제공됩니다.
애플리케이션: 플라스틱 렌즈
연마재 유형: 알루미나
우리는 가장 중요한 응용 분야의 요구 사항에 맞는 다양한 랩핑 파우더를 제공합니다.엄격한 품질 관리 표준과 엄격한 입자 분포를 통해 당사의 느슨한 연마 제품은 배치 간에 일관성을 유지합니다.
GC(녹색 탄화규소)는 2000°C 이상의 온도에서 전기로에서 실리카와 코크스를 반응시켜 생성되는 초고순도 탄화규소(SiC) 랩핑 분말입니다. 이 공정은 다음과 같은 품질을 생성합니다.
결과 제품은 화학약품의 영향을 받지 않는 우수한 래핑 및 폴리싱 품질을 가지며 파편으로 인해 날카로운 모서리를 생성할 수 있습니다.따라서 GC는 많은 목적에 적합합니다.
애플리케이션: 결정, 페라이트, 금속, 실리콘, 니오브산리튬, 탄탈산리튬
연마재 유형: 녹색 탄화규소
C는 일반적으로 Carborundum으로 알려진 검은 실리콘 카바이드 랩핑 분말입니다.GC와 마찬가지로 C는 2000°C 이상의 온도에서 전기로에서 실리카와 코크스를 반응시켜 생성됩니다. 이는 다음과 같은 품질을 생성합니다.
C는 연마 가공에 탁월하며 작업면에서 우수한 래핑을 생성합니다.따라서 C는 정밀 연마 천 및 종이뿐만 아니라 정밀 숫돌의 재료로 이상적입니다.
애플리케이션: 무쇠, 고급장교, 구리, 알루미늄, 돌, 유리
연마재 유형: 블랙 실리콘 카바이드
PWA는 순도 99.0% 이상의 산화알루미늄(Al2O3)의 판상 결정으로 구성된 백색 소성 알루미나 연마제입니다.
입자 크기 분포는 엄격하게 제어되고 매우 미세한 랩핑된 표면을 생성하여 광범위한 적용을 허용합니다.
애플리케이션: 실리콘, 크리스탈, 스테인리스 스틸, 광학 재료
연마재 유형: 백색 소성 Aumina
WA는 용융 알루미나를 분쇄하고 입자를 균일한 크기로 선별하여 제조한 용융 백색 알루미나 연마제 분말입니다.생성된 화합물은 다음과 같은 특성을 갖습니다.
이러한 특성으로 인해 WA는 높은 수준의 표면 연마를 위한 탁월한 선택입니다.
애플리케이션: 금속, 석영 결정
연마재 유형: 백색 융합 알루미나
A는 Arundum으로 널리 알려진 가장 널리 알려진 연마 분말입니다.Fujimi는 2000°C의 온도에서 전기로에서 보크사이트를 녹여 A를 생산하여 순도 90% 이상의 산화알루미늄(Al2O3) 커런덤 결정을 얻습니다.
또한 이 공정은 결정을 소량의 티타늄과 융합하여 연마 입자의 인성(강인성)을 높입니다.결과적으로 A는 모든 Fujimi 연마 분말의 인성이 가장 높습니다.Fujimi는 매우 효율적이고 매우 안정적인 연마재를 위해 입자 크기의 일관된 분포를 위해 A를 제조합니다.
애플리케이션: 연질 금속, 유리, 음극선관
연마재 유형: 융합 알루미나
FO는 반도체 웨이퍼의 정밀한 래핑을 위해 특별히 설계된 알루미나 기반 분말입니다.FO는 연마되는 표면에 흠집을 남기지 않는 특별한 입자 모양과 경도를 가지고 있습니다.이러한 동일한 품질 덕분에 FO는 렌즈, 프리즘 및 기타 광학 유리 제품을 위한 우수한 랩핑제이기도 합니다.
애플리케이션: 갈륨 비소, 갈륨 인화물, 실리콘, 강화 유리, 결정체, 광학 유리
연마재 유형: 알루미나 및 지르코니아 혼합
추가 정보는 당사에 문의하십시오.
담당자: Daniel
전화 번호: 18003718225
팩스: 86-0371-6572-0196
